2026年3月25日，慕尼黑上海电子生产设备展在上海新国际博览中心盛大开幕。作为电子制造领域年度顶级盛会，展会既是前沿技术与创新产品的展示平台，也是产业链上下游交流合作、研判行业风向的重要枢纽。
创办至今，慕尼黑上海电子生产设备展规模与影响力逐年攀升，不仅吸引欧美、日韩等半导体强国的头部企业踊跃参展，搭建起跨国技术交流与产业协作桥梁，更成为行业发展的权威风向标。众多国内企业借助这一国际化平台，展示自研成果、推进技术落地，加速了我国半导体产业与国际接轨的步伐，助力本土产业链完善升级。
本届展会亮点突出，三大特色尽显行业新风向。技术展示上，半导体先进制程展区全面扩容，3nm及以下高端制程设备、材料集中亮相，彰显了行业攻坚尖端芯片技术的决心。同时，展会特设“绿色电子制造”专区，推广节能减排、可持续生产理念，多款环保设备与低碳工艺集中展出，契合全球绿色发展趋势。此外，展会深化线上线下融合模式，打破地域限制，全球观众可云端观展、参与论坛研讨，大幅拓宽了展会辐射范围。
匠心筑造精品 易科微展台大放异彩
本届展会上，易科微凭借硬核技术与优质展品，成为现场焦点。展台以蓝色为主色调，搭配灵动光影，科技感十足，瞬间吸引大批参观者驻足。
展会现场，易科微蚀刻、沉积核心设备展区人气高涨，大批专业客商前来咨询交流。工作人员通过实物演示、现场讲解，细致介绍设备性能与应用优势，展现了专业的技术功底与服务态度。此次易科微携两款明星设备模型重磅参展，分别是RE反应离子刻蚀机、PECVD等离子体化学气相沉积设备，两款产品凝聚核心技术，成为展台亮点。
RE反应离子刻蚀机：精雕细琢，筑牢精密制造根基
RE反应离子刻蚀机是半导体精密加工核心设备，性能优势显著。设备具备超高精度刻蚀能力，可实现微米、纳米级微观图形刻画，完美满足高端制造的严苛精度要求。同时，设备刻蚀均匀性极佳，无论大小面积加工，都能保证刻蚀程度一致，杜绝局部偏差，提升成品质量。此外，设备工艺可控性强，可灵活调整参数，适配多样化生产需求。
PECVD等离子体化学气相沉积设备：低温高效，铸就高品质薄膜
PECVD等离子体化学气相沉积设备同样实力出众，主打低温高效沉积。设备可在低温环境下完成薄膜加工，避免高温损伤热敏性基材，最大限度保护材料性能。其次，设备沉积速度快，能大幅提升生产效率，适配规模化量产。最重要的是，设备成膜质量优异，薄膜致密均匀、附着力强，为后续芯片制造、器件封装打下坚实基础。
两款核心设备的亮相，充分展现了易科微在半导体制造设备领域的深厚技术积累与强劲研发实力，凸显了国产设备的广阔应用前景。
顺应产业大势 深耕赛道谋远共赢
当前，全球半导体行业正处于高速发展期。国内方面，在政策扶持与5G、人工智能、物联网等新兴产业的带动下，半导体市场需求旺盛，本土企业加大研发投入，中低端设备国产化替代稳步推进，正逐步向高端领域突破。国际方面，欧美强国把持高端核心技术，日韩企业在存储、面板设备领域优势明显，全球市场竞争激烈，技术专业化细分不断加深，共同推动产业迭代升级。
此次参展，是易科微紧跟行业趋势、接轨国际市场的重要一步。企业借助展会平台展示实力、拓展合作，进一步提升了品牌影响力。未来，易科微将继续深耕半导体设备领域，坚守研发初心，攻坚核心技术，优化产品性能，全力开拓海内外市场，为国产半导体产业发展、全球电子制造升级贡献坚实力量。